產品介紹:

工藝一：一定(ding)(ding)流量的氮(dan)(dan)氣和(he)過(guo)量氫(qing)(qing)氣同時進入純(chun)化裝(zhuang)置，先經氮(dan)(dan)氫(qing)(qing)自動配比裝(zhuang)置和(he)靜態(tai)混合器均勻(yun)混合，再進入催(cui)化脫氧(yang)器，在催(cui)化劑作用下(xia)，氮(dan)(dan)氣中的余氧(yang)與氫(qing)(qing)反(fan)應生(sheng)成水，化學(xue)反(fan)應式(shi):2H2 + O2 = 2H2O ,氮(dan)(dan)氣再經過(guo)濾器脫水后(hou)進入脫氫(qing)(qing)器除去(qu)過(guo)量氫(qing)(qing)，如(ru)果工藝允許氮(dan)(dan)氣中含有(you)一定(ding)(ding)量的氫(qing)(qing)氣，則不脫氫(qing)(qing)。氮(dan)(dan)氣最后(hou)經冷干機和(he)吸干機除去(qu)水份得到(dao)干燥的高純(chun)度氮(dan)(dan)氣。

工(gong)藝二：一定流量的氮(dan)(dan)(dan)氣和(he)欠量氫氣同(tong)時進入純化裝置，先經(jing)氮(dan)(dan)(dan)氫自(zi)動配比裝置和(he)靜態混(hun)合器(qi)(qi)均勻(yun)混(hun)合，再進入催(cui)化脫(tuo)(tuo)氧(yang)(yang)器(qi)(qi)，在催(cui)化劑作用下(xia)，氮(dan)(dan)(dan)氣中的余(yu)氧(yang)(yang)與氫反(fan)應生成水，氮(dan)(dan)(dan)氣再經(jing)過濾(lv)器(qi)(qi)脫(tuo)(tuo)水，剩下(xia)的殘氧(yang)(yang)再進吸(xi)(xi)氧(yang)(yang)塔吸(xi)(xi)附(fu)脫(tuo)(tuo)氧(yang)(yang)(采用高(gao)效脫(tuo)(tuo)氧(yang)(yang)吸(xi)(xi)附(fu)劑)，氮(dan)(dan)(dan)氣最后經(jing)冷干機和(he)吸(xi)(xi)干機除去(qu)水份(fen)得到干燥的高(gao)純度(du)氮(dan)(dan)(dan)氣。

TLHA型(xing)為(wei)加(jia)氫(qing)脫(tuo)(tuo)氧不脫(tuo)(tuo)氫(qing)型(xing)，TLHB為(wei)加(jia)氫(qing)脫(tuo)(tuo)氧再脫(tuo)(tuo)氫(qing)型(xing)，TLHC為(wei)加(jia)氫(qing)脫(tuo)(tuo)氧再吸氧型(xing)。該工(gong)藝適合于(yu)熱處理、化(hua)工(gong)、玻璃、金屬材料等行業。

技術特點:

1.脫氧(yang)及脫氫催化劑高(gao)效耐用，使用壽命較(jiao)長，穩定性較(jiao)好。

2.脫氧(yang)可在(zai)常溫下進行，不用加熱器，大(da)大(da)節省能耗。

3.對普(pu)氮(dan)要(yao)求范圍(wei)廣，普(pu)氮(dan)可在98-99.9%范圍(wei)內選擇(ze)。

4.加(jia)(jia)氫(qing)純(chun)化(hua)裝置(zhi)(zhi)根據工況(kuang)情(qing)況(kuang)設置(zhi)(zhi)氮氫(qing)自(zi)動配比裝置(zhi)(zhi)，可(ke)根據氮氣(qi)(qi)流入(ru)量和純(chun)度自(zi)動計算并控制(zhi)加(jia)(jia)入(ru)的氫(qing)氣(qi)(qi)量，全自(zi)動控制(zhi)，設備反應靈敏，滯后(hou)量小(xiao)，調(diao)節精度較高。

5.與氫氣接觸部(bu)分電(dian)器全部(bu)采用防爆電(dian)器，安全可靠(kao)。

6.氮氫(qing)混合(he)是(shi)在(zai)靜(jing)態混合(he)器中完成，混合(he)效果較好，氫(qing)氣耗用量較少。

7.配(pei)備(bei)自動(dong)聯鎖放空(kong)，多種(zhong)故障(zhang)報(bao)警。

TLHA型：

氮(dan)氣產(chan)量(liang)：10—3000Nm3/h

氮氣純度：99.9995％

H2含(han)量800ppm～5％(可調)

壓力(li)降：0.1Mpa

氧含量≤3ppm

氮氣常(chang)壓露(lu)點一60℃ 

TLHB型：

氮氣產量：10—3000Nm3/h

氮(dan)氣純度：99.9995％

H2含量：<3ppm

壓力降(jiang)：0.1 Mpa

氧含量：≤3ppm

氮氣常壓露(lu)點：一60℃